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ASML哀嘆,光刻機事業已到盡頭,中國市場已是它最后的救命稻草

更新時間:2022-9-30 15:24:00
摘要: 近期光刻機巨頭ASML頻頻向中國芯片釋放善意,與此前的態度截然不同,讓人摸不著頭腦,直到近期它的高管發言或許能解釋這一原因,中國市場已成為它最后的蛋糕了,能賣一臺賺一臺。
近期光刻機巨頭ASML頻頻向中國芯片釋放善意,與此前的態度截然不同,讓人摸不著頭腦,直到近期它的高管發言或許能解釋這一原因,中國市場已成為它最后的蛋糕了,能賣一臺賺一臺。

  ASML哀嘆,光刻機事業已到盡頭,中國市場已是它最后的救命稻草

  ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻機可能將是光刻機的最后一代產品了,這已經達到了當前光刻機技術所能達到的最高水平,以這種光刻機技術或許能推進至1.8納米,再先進的工藝就得另尋它法。

  當前的EUV光刻機技術是通過將鏡頭放在液體里,通過液體和鏡頭等的多重折射最終打印出更小的結構,從而制造更先進的工藝,然而這種方式隨著向更先進的工藝推進,這種方式導致光刻機日益笨重,光刻機自身的成本也因此激增,第一代EUV光刻機的價格達到1.2億美元,預計High-NA EUV光刻機售價將達到4億美元。

  隨著光刻機變得更加負責,光刻機的耗電量也在激增,業界人士指出High-NA EUV光刻機的總功耗將達到200萬瓦的水平,每天耗電量將達到4.8萬度電;如今臺積電僅是推進至5nm工藝,它消耗的電力已占中國臺灣省的8%,業界預期推進至3nm之后它消耗的電力將占中國臺灣的12%。

  一方面是光刻機的技術逐漸達到極限,繼續升級已不太可能;另一方面是設備自身成本以及生產成本的激增,這就導致ASML自己都擔憂這些先進光刻機未來還有多大需求,而快速發展的中國市場則可望成為臺積電最后的希望。

  ASML哀嘆,光刻機事業已到盡頭,中國市場已是它最后的救命稻草

  當前有能力采用價格昂貴的EUV光刻機的客戶其實只有Intel、臺積電和三星,它們目前推進的最先進工藝為3nm,然而臺積電的3nm被指在性能參數方面遠未達到預期,這已導致蘋果放棄了3nm,迫使臺積電進一步改良3nm工藝至N3E。

  三星的3nm工藝表現較好,但是三星的3nm工藝在良率方面卻比臺積電更低,導致成本奇高,失去經濟價值。同時全球芯片行業已步入下行階段,芯片企業為了節省成本均不愿采用先進工藝,高通就已確定將從只擁有14nm及成熟工藝的格芯采購76億美元的芯片,這都導致臺積電等芯片制造企業失去了研發先進工藝的動力。

  如此情況下,這些芯片制造企業已不可能繼續大規模采購EUV光刻機,對于更先進的High-NA EUV光刻機的采購也可能因此延期,畢竟市場需求不強的情況下,更先進的光刻機投資額巨大,會導致芯片制造企業承擔巨大的風險。

  如此情況下,如今ASML已認識到中國芯片行業已成為它最后一根救命稻草,開始積極尋求向中國芯片出口更多DUV光刻機,以抵御先進的EUV光刻機銷售額迅速暴跌的局面,確保它自己在寒冬中獲得生存的機會。

 ASML哀嘆,光刻機事業已到盡頭,中國市場已是它最后的救命稻草 

  值得注意的是不僅ASML將希望放在中國市場,韓國存儲芯片、美國芯片都將希望放在中國市場,它們目前都希望中國企業采購更多芯片,幫助它們解決芯片庫存,確?,F金流,為此甚至不惜大舉降價拋售,與此前它們大舉漲價銷售芯片形成鮮明對比,這不免讓人感嘆一年河東、一年河西。

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